发明名称 포토 마스크용 방진보호 펠리클 프레임
摘要 <p>본 고안은 반도체 웨이퍼 상에 집적회로를 패터닝할 때 파티클이나 이 물질이 웨이퍼 상에 패터닝되는 것을 방지하도록 하는 펠리클(Pellicles)에 관한 것으로, 특히 펠리클 박막을 부착 유지하면서 마스크에 부착되는 펠리클 프레임에 관한 것이다. 도전성 섬유를 포함한 열가소성 수지로써 폴리에테르에테르케톤과 폴리에테르케톤 중의 하나로 5∼30wt%의 탄소 섬유를 포함한다. 상기재료로 구성되는 펠리클 프레임의 구성의 제 1 실시예는 내측 둘레에 테이퍼면을 가지게 하여 마스크와의 접착재 접면을 최소화 한 구성으로 이루어지되 상기 모서리가 라운드부로 이루어진 구성이다. 제 2 실시예로써 제 1 실시예의 플레임 상면 둘레에 일정 깊이의 테두리 홈을 형성한다. 제 3 실시예로써, 상기 프레임의 구조적 강도 보강을 위해 펠리클 프레임의 내외 측 둘레에 파형 리브를 형성한다.</p>
申请公布号 KR200190964(Y1) 申请公布日期 2002.11.21
申请号 KR19970012303U 申请日期 1997.05.28
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址