发明名称 含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物
摘要 本发明包括含有杂环,优选含氧或含硫的环的聚合物。该杂环优选被稠合到聚合物骨架上。本发明还提供含有这些聚合物的光刻胶,特别用于在短波长如亚-200纳米下成像。
申请公布号 CN1380993A 申请公布日期 2002.11.20
申请号 CN01801511.5 申请日期 2001.05.08
申请人 希普雷公司 发明人 G·G·巴克雷;W·约
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈季壮
主权项 1.光刻胶组合物,它包括光活性组分和聚合物,该聚合物包括:i)稠合到聚合物骨架上和含有一个或多个氧或硫环节点的杂脂环族基团;ii)稠合到聚合物骨架上的碳脂环基;和iii)光酸不稳定部分。
地址 美国马萨诸塞