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经营范围
发明名称
HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE
摘要
申请公布号
KR20020086578(A)
申请公布日期
2002.11.18
申请号
KR1020027011115
申请日期
2002.08.24
申请人
发明人
分类号
H01J37/32
主分类号
H01J37/32
代理机构
代理人
主权项
地址
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