发明名称 一种液晶显示器阵列衬底的制造方法
摘要 一种液晶显示器阵列衬底的制造方法包括以下步骤:通过在一衬底上形成一金属材料,在该衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积一绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。
申请公布号 CN1379277A 申请公布日期 2002.11.13
申请号 CN02108754.7 申请日期 2002.03.29
申请人 LG.菲利浦LCD株式会社 发明人 黄旷兆;金佑炫
分类号 G02F1/136;G03F7/20;G03F7/26 主分类号 G02F1/136
代理机构 隆天国际专利商标代理有限公司 代理人 徐金国;陈红
主权项 1.一种液晶显示器阵列衬底的制造方法,包括以下步骤:在一衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;和通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。
地址 韩国汉城