发明名称 镁合金表面处理方法
摘要 一种镁合金表面处理方法,该方法包含下列的步骤:预备一镁合金铸件;电弧抛光该镁合金铸件,其中该镁合金铸件被电气连接至正电极,并且被浸入一含有电解液的电解槽中,而该电解槽槽体被电气连接至一负电极,使得该电解液带有负电荷,该电解槽的操作电压、操作电流及操作温度是被设定在一操作条件下使得在紧邻该镁合金铸件的表面产生多数的连续气泡,并因此在该镁合金铸件的表面与该电解液之间形成一连续性气膜,该气膜所形成的间隙恰足以使得该镁合金铸件的表面与该电解液之间产生电弧,撞击该镁合金铸件的表面,从而达到抛光该镁合金铸件。
申请公布号 CN1379124A 申请公布日期 2002.11.13
申请号 CN01109763.9 申请日期 2001.04.10
申请人 环宇真空科技股份有限公司 发明人 周钟霖
分类号 C25F3/16;C23C14/02;C23C14/16;C23C14/34 主分类号 C25F3/16
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 过晓东
主权项 1.一种镁合金表面处理方法,其特征在于,该方法包含下列之步骤:预备一镁合金铸件;电弧抛光该镁合金铸件,其中该镁合金铸件被电气连接至正电极,并且被浸入一含有电解液的电解槽中,而该电解槽槽体被电气连接至一负电极,使得该电解液带有负电荷,该电解槽的操作电压、操作电流及操作温度是被设定在一操作条件下使得该镁合金铸件的表面产生化学反应,且在紧邻该镁合金铸件的表面产生多数的连续气泡,因而在该镁合金铸件的表面与该电解液之间形成一连续性气膜,该气膜所形成的间隙恰足以使得该镁合金铸件的表面与该电解液之间产生电弧,撞击该镁合金铸件的表面,而达到抛光该镁合金铸件。
地址 台湾省台北县
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