在微刻写入中的射束定位

摘要

本发明涉及一种用于在感光基片上进行微刻写入和检查的系统和方法,特别是用极高的精度印刷和检查图案,例如用于半导体器件图案、显示面板、集成光设备以及电子互联结构的光掩膜。更加具体来说,本发明涉及通过改变位置数据或者把该数据传送到偏转器而补偿基片的偏移,并且使用直接数字分析(DDS)单元来产生扫频驱动信号。

主权项

1.一种用于在感光基片(6)上进行微刻写入或图案的检查的激光扫描系统，该系统包括一个激光源(1)，其产生至少一条激光束；计算机控制的光调制器(3)，其被根据输入的图案信号而控制；一个透镜，其在光线到达基片之前对来自光源的光束进行聚焦；以及基片载物台，用于承载基片，从而在写入操作过程中，由根据表示射束在基片上的连续位置的一组数据的扫频信号所驱动的声光偏转器把至少一条射束在该基片表面的一个区域上偏转，并且该基片与偏转的方向成一个倾斜角的方向上运动，最好与偏转方向相垂直，以把它重新定位用于在射束的下一次扫射过程中进行曝光；以及至少一个传感器，其测量在基片在偏转方向上偏移的范围，其特征在于，进一步包括用于改变位置数据或位置数据传送的装置，以对应于横向偏移的扫描；以及控制单元，用于根据由偏转器所测量的偏移而控制所述位置数据和位置数据的传送，以把数据读出到偏转器，从而补偿所述偏移。