| 发明名称 | 曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置可高精确度地维持光罩与感光基板之间的平行度,并将光罩上的图案正确地投影曝光于感光基板上。由照明光学投影系统(30)照明光罩(10)上所形成的图案再经由投影光学系统(40)投影于感光基板(20)上且光罩(10)与感光基板(20)相对于投影光学系统(40)朝所定的扫描方向进行同步扫描而使图案曝光于感光基板(20)上的曝光装置(1)具有位于光罩(10)上方且可由负压将前述光罩朝上方吸引的吸引装置(50)。吸引装置(50)配置于照明光学系统(30)的附近,且具有与光罩对向的多个吸引垫(51A～51E)。 | ||
| 申请公布号 | CN1379286A | 申请公布日期 | 2002.11.13 |
| 申请号 | CN02108207.3 | 申请日期 | 2002.03.27 |
| 申请人 | 尼康株式会社 | 发明人 | 白数广;木内徹 |
| 分类号 | G03F7/20;G03F7/23 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，可于一光罩移动的过程中，将形成于该光罩上的一图案曝光于一感光基板上，其特征为：此装置包括：一挠曲修正装置，用以修正该光罩的挠曲；以及一驱动手段，对应该光罩的移动而改变该挠曲修正装置的进行该光罩修正的位置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||