ELECTRON BEAM MODIFICATION OF CVD DEPOSITED FILMS, FORMING LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS,申请号EP20010905367-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	ELECTRON BEAM MODIFICATION OF CVD DEPOSITED FILMS, FORMING LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIALS
摘要
申请公布号	EP1256125(A1)	申请公布日期	2002.11.13
申请号	EP20010905367	申请日期	2001.02.02
申请人	ELECTRON VISION CORPORATION	发明人	ROSS, MATTHEW, F.;THOMPSON, HEIKE;YANG, JINGJUN
分类号	C23C16/56;H01L21/3105;H01L21/312;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/310	主分类号	C23C16/56
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