| 主权项 |
1.一种光罩用空白基板,系于透明基板上有至少一层遮光膜及至少一层反射膜的光罩用空白基板,其特征为:该遮光膜及抗反射膜系全由组合CrCO层或CrCON层或CrCO层及CrCON层而成之复合层所形成者。2.如申请专利范围第1项之光罩用空白基板,系从基板侧起依序形成作为遮光膜之CrCO层、及作为抗反射膜之CrCON层所成。3.如申请专利范围第1项之光罩用空白基板,系从基板侧起依序形成作为遮光膜之CrCON层、及作为抗反射膜之CrCON层所成。4.如申请专利范围第1项之光罩用空白基板,系从基板侧起依序形成作为第一抗反射膜之CrCON层、作为遮光膜之CrCO层、及作为第二抗反射膜之CrCON层所成。5.如申请专利范围第1项之光罩用空白基板,系从基板侧起依序形成作为第一抗反射膜之CrCON层、作为遮光膜之CrCON层、及作为第二抗反射膜之CrCON层所成。6.如申请专利范围第1至5项中任一项之光罩用空白基板,其中遮光膜及抗反射膜合并之膜全体的膜应力在0.2十亿帕以下。7.如申请专利范围第1至5项中任一项之光罩用空白基板,其中遮光膜及抗反射膜于成膜前后的基板翘曲变化量在0.2微米以下。8.如申请专利范围第6项之光罩用空白基板,其中遮光膜及抗反射膜于成膜前后的基板翘曲变化量在0.2微米以下。9.一种光罩,其特征为:系以将如申请专利范围第1至8项中任一项之光罩用空白基板以微影法形成图案而得者。图式简单说明:第1图 本发明之一实施例有关的光罩用空白基板之剖视图。第2图 同光罩之剖视图。第3图 本发明之另一实施例有关的光罩用空白基板之剖视图。第4图 同光罩之剖视图。第5图 呈示光罩之制造法的说明图,(A)系形成阻剂膜之状态,(B)系阻剂膜图案化后之状态,(C)系施以乾式蚀刻或湿式蚀刻后之状态,(D)系去除阻剂膜后之状态的概略剖视图。 |
