发明名称 抗静电光罩之制造方法
摘要 本发明揭示一种抗静电光罩(reticle)之制造方法,其藉由在光罩制造过程中,采用马南根尼乾燥技术(Marangonidryer)进行乾燥处理并将抗静电材料加入异丙醇(IPA),以在乾燥处理期间同时于光罩表面上涂布形成一抗静电层作为光罩之保护层,防止静电电荷放电(electricstatic discharge, ESD)造成光罩图案的损害。
申请公布号 TW509977 申请公布日期 2002.11.11
申请号 TW090124261 申请日期 2001.10.02
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 苏威宇;郑东旭;滕立功
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种抗静电光罩之制造方法,包括下列步骤:在一基底上形成一遮蔽层;定义蚀刻该遮蔽层,以形成一光罩之图案层;对该光罩进行清洗以去除该图案层上残留之渣屑;以及通入氮气与一混合液以对该光罩进行乾燥处理,藉以去除该光罩上之水分并在该光罩表面形成一抗静电层,其中该混合液系抗静电材料溶于醇类溶剂所组成。2.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该乾燥处理系利用马南根尼乾燥技术。3.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该基底系一石英玻璃。4.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该遮蔽层系铬金属。5.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中系藉由去离子水清洗该光罩。6.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该醇类溶剂系异丙醇。7.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该抗静电材料系四级胺化合物与阳离子聚合物之一种。8.如申请专利范围第1项所述之抗静电光罩之制造方法,其中该抗静电层之厚度在100到1000埃的范围。图式简单说明:第1a到1f图系绘示出根据本发明实施例之抗静电光罩制造流程剖面示意图。
地址 新竹科学工业园区园区三路一二一号