| 发明名称 |
PROCEDE DE FORMATION DE PLOTS DE CONTACT D'UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2764734(B1) |
申请公布日期 |
2002.11.08 |
| 申请号 |
FR19980007293 |
申请日期 |
1998.06.10 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
BO UN YOON;IN KWON JEONG;WON SEONG LEE |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/321;H01L21/768;(IPC1-7):H01L23/528 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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