Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie

摘要

Bei einem Objektiv (1), insbesondere bei einem Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie, ist wenigstens ein optisches Element, insbesondere das in Strahlrichtung letzte optische Element, in Form einer Abschlußplatte (3) austauschbar. Zwischen dem auszutauschenden optischen Element (3) und einer Fassung (5) oder einem mit einer Fassung (5) verbundenen Teil ist zur Justage des optischen Elementes (3) eine optische Paßformgenauigkeit mit Flächenpassung (6) eingestellt.