发明名称 POSITIVE TYPE RESIN COMPOSITION AND THE METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
摘要 <p>본 발명은, 베이스폴리머, 에테르결합함유 올레핀성 불포화화합물 및 산발생제를 함유해서 이루어지는 포지티브형 수지조성물에 있어서, 베이스폴리머로서, 식(1)∼(3) (식중에서, R, R은 수소 또는 메틸기, R는 탄소수 1∼6의 직쇄 혹은 분기의 무치환알킬기 또는 탄소수 1∼6의 직쇄 혹은 분기의 치환알킬기임)으로 표시되는 구성단위를 가진 공중합체이고, a=0.05∼0.7, b=0.15∼0.8 및 c=0.01∼0.5이고, 또한 a+b+c=1인 것을 특징으로 하는 포지티브형 수지조성물은, 활성에너지선 조사에 의해 고정밀도인 패턴형성이 가능한 것을 특징으로 한 것이다.</p>
申请公布号 KR100359948(B1) 申请公布日期 2002.11.04
申请号 KR19990044849 申请日期 1999.10.15
申请人 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 发明人 이마이겐지;후쿠다리쯔코;타카오토시로;이케다케이이치;야마모토요시히로
分类号 B41C1/10;B41M5/36;G03F7/039 主分类号 B41C1/10
代理机构 代理人
主权项
地址