| 主权项 |
1.一种止逆凡而结构改良,其系由一上盖、一止逆挡板及一基座所组成;其特征在于:该基座内部一侧分别延设有一止逆挡板固定座,该止逆挡板固定座上各凿设有一崁槽,俾可供一止逆挡板两侧之支肋崁入,俾可将该止逆挡板固定于止逆挡板固定座上者。2.如申请专利第1项所述之止逆凡而结构改良;其中,该基座上设有一上盖衔接座,该上盖衔接座内缘凿设有一浅凹,俾可供一垫圈置设,又该上盖衔接座上方设有一上盖,俾以螺丝穿过该上盖之圆孔后,螺入该上盖衔接座之螺孔中,以达到螺合固定者。3.如申请专利第1项所述之止逆凡而结构改良;其中,该上盖下方凸设之凸环与垫圈相互顶抵接触,且该凸环一侧分别延设有一与支肋相对应位置之卡凸块,藉由该卡凸块顶抵止逆挡板之支肋,以达到顶抵压合固定者。4.如申请专利第1项所述之止逆凡而结构改良;其中,该上盖周缘适当位置处向下延设有一定位块,俾与该上盖衔接座周缘适当位置处所凹设之定位槽相互对应者。图式简单说明:第一图系习用之立体分解示意图。第二图系习用之立体组合示意图。第三图系习用之平面剖视运用示意图。第四图系本创作之立体分解示意图。第五图系本创作之立体组合示意图。第六图系本创作之平面剖视止逆动作示意图。第七图系本创作之平面剖视运用示意图。 |
