| 主权项 |
1.一种透光性基板,系一面被拨水拨油性被膜覆盖,另一面被具有亲水性且防雾性之被膜覆盖,其特征在于:前述拨水拨油性被膜系全氟烷基烷基矽氧烷,前述具有亲水性及防雾性之被膜为光触媒层。2.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,于前述光触媒层之基板侧,进一步形成有二氧化矽之底层。3.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,于前述拨水拨油性被膜之基板侧,进一步形成有二氧化矽之底层。4.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述全氟烷基烷基矽氧烷,系以一般式CF3-(CF2)n-R-SiXp (-O-)3-p(n系0或整数,R系烷撑基、乙烯撑基,或包含Si、氧原子之置换基,X系H或烷基、环烷基、烯丙基或自该等衍生物所选择之置换基,p系0,1或2)来表示。5.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述拨水拨油性被膜系高分子聚合物状或单分子膜状。6.如申请专利范围第2项之透光性基板,其中,系藉前述二氧化矽底层及前述光触媒层,使基板表面粗化。7.如申请专利范围第6项之透光性基板,其中,前述二氧化矽底层之粗糙化程度,系亚微米至精密级之凸凹。8.如申请专利范围第2项之透光性基板,其中,前述二氧化矽底层,系使选自SiCl4.SiHCl3.SiH2Cl2.及Cl-(SiCl2O)n-SiCl3(n系整数)之至少一种化合物接触透光性基板表面,进行脱氯化氢反应处理来加以形成。9.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述光触媒层含有氧化钛微粒,藉光励起将表面附着之有机物加以氧化分解。10.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述光触媒层含有氧化钛微粒,并进一步含有二氧化矽。11.如申请专利范围第10项之透光性基板,其中,前述含有氧化钛微粒之光触媒层亦含有二氧化矽及二氧化矽以外之无机氧化物。12.如申请专利范围第11项之透光性基板,其中,二氧化矽以外之无机氧化物包含萤光体。13.如申请专利范围第12项之透光性基板,其中,前述萤光体系于2价金属之铝酸盐中添加稀土金属者。14.如申请专利范围第13项之透光性基板,其中,前述2价金属系钙或锶,稀土金属系铕、镨、钕、镝之任一种。15.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述光触媒层之厚度为1nm以上、3m以下。16.如申请专利范围第1项之透光性基板,其中,前述透光性基板系自玻璃板及塑料板中所选择之至少一种。17.如申请专利范围第16项之透光性基板,其中,前述玻璃板系能穿透紫外线之材质的玻璃板。18.如申请专利范围第17项之透光性基板,其中,前述能穿透紫外线之玻璃板,系能穿透波长为350~400nm之光的玻璃。19.一种透光性基板之制造方法,该透光性基板系一面被拨水拨油性被膜覆盖,另一面被具有亲水性且防雾性之被膜覆盖,其特征在于:前述拨水拨油性被膜,系对透光性基板表面进行全氟烷基烷基矽氧烷处理,藉低分子脱离反应使其化学键合,前述具有亲水性及防雾性之被膜,系以含有氧化钛(具光触媒能力)之层来形成。20.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,于前述光触媒层之基板侧进一步形成二氧化矽底层。21.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,于前述拨水拨油性被膜之基板侧进一步形成二氧化矽底层。22.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,对一面进行之全氟烷基烷基矽氧烷处理的处理,系以自脱氯化氢反应、脱乙醇反应及脱HNCO反应中所选择之至少一种低分子脱离反应,来形成拨水拨油性膜。23.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,前述全氟烷基烷基矽氧烷,系自一般式CF3-(CF2)n-R-SiXpCl3-p(n系0或整数,R系烷撑基、乙烯撑基,或包含Si、氧原子之置换基,X系H或烷基、环烷基、烯丙基或自该等衍生物所选择之置换基,p系0,1或2)、CF3-(CF2)n-R-SiXq(OA)3-q(n系0或整数,R系烷撑基、乙烯撑基,或包含Si、氧原子之置换基,X系H或烷基、环烷基、烯丙基或自该等衍生物所选择之置换基,OA系烷氧基(但A系H或烷基),q系0,1或2)、及/或CF3-(CF2)n-R-SiXrZ3-r(n系0或整数,R系烷撑基、乙烯撑基,或包含Si、氧原子之置换基,X系H或烷基、环烷基、烯丙基或自该等衍生物所选择之置换基,Z系异氰酸酯(-NCO)基,r系0,1或2)所选择之至少一种化合物。24.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,前述透光性基板系自玻璃板及塑料板中所选择之至少一种。25.如申请专利范围第24项之透光性基板之制造方法,其中,系于前述玻璃基材表面涂布矽酸盐玻璃,再进行加热处理或等离子灰化处理来形成二氧化矽底层。26.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,系于前述二氧化矽底层之形成时预先于矽酸盐玻璃中混合微粒,以使基板表面粗面化。27.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,作为前述二氧化矽底层,系使选自SiCl4.SiHCl3.SiH2Cl2.及Cl-(SiCl2O)n-SiCl3(n系整数)之至少一种氯矽烷化合物接触透光性基板表面,进行脱氯化氢反应处理来加以形成。28.如申请专利范围第27项之透光性基板之制造方法,其中,于前述氯矽烷化合物中进一步的预先混合微粒,以使基板表面粗面化。29.如申请专利范围第19项之透光性基板之制造方法,其中,前述光触媒层,系将含有氧化钛微粒之光触媒性涂膜组成物加以涂布烧结来形成。30.如申请专利范围第29项之透光性基板之制造方法,其中,前述含有氧化钛微粒之光触媒性涂膜组成物中,进一步含有二氧化矽。31.如申请专利范围第29项之透光性基板之制造方法,其中,前述含有氧化钛微粒之光触媒性涂膜组成物中,进一步含有二氧化矽及二氧化矽以外之无机氧化物。32.如申请专利范围第31项之透光性基板之制造方法,其中,二氧化矽以外之无机氧化物包含萤光体。33.如申请专利范围第31项之透光性基板之制造方法,其中,前述萤光体系于2价金属之铝酸盐中添加稀土金属之组成。34.如申请专利范围第33项之透光性基板之制造方法,其中,前述2价金属系钙或锶,稀土金属系铕、镨、钕、镝之任一种。35.如申请专利范围第24项之透光性基板之制造方法,其中,涂布烧结前述含有氧化钛微粒之光触媒性涂膜组成物的步骤,系与玻璃基板之风冷强化步骤同时进行。36.如申请专利范围第24项之透光性基板之制造方法,其中,前述二氧化矽底层之形成步骤,系与玻璃基板之风冷强化步骤同时进行。37.一种建筑物,系具备一面被拨水拨油性被膜覆盖,另一面被具有亲水性且防雾性之被膜覆盖之透光性基板所构成之窗,其特征在于:前述拨水拨油性被膜系全氟烷基烷基矽氧烷,前述具有亲水性及防雾性之被膜系光触媒层,前述拨水拨油性被膜系设置于室外侧,前述光触媒层系设置于室内侧。38.如申请专利范围第37项之建筑物,其中,前述室内系自浴室、盥洗室、餐厅及厨房中所选择之至少一种房间。39.如申请专利范围第37项之建筑物,其中,前述透光性基板之至少一侧的膜面表面为凸凹。40.如申请专利范围第39项之建筑物,其中,前述表面之凸凹为可视光之波长以下的凸凹。41.一种交通工具,系具备一面被拨水拨油性被膜覆盖,另一面被具有亲水性且防雾性之被膜覆盖之透光性基板所构成之窗,其特征在于:前述拨水拨油性被膜系全氟烷基烷基矽氧烷,前述具有亲水性及防雾性之被膜为光触媒层,前述拨水拨油性被膜系设置于室外侧,前述光触媒层系设置于室内侧。42.如申请专利范围第41项之交通工具,其中,前述透光性基板之至少一侧的膜面表面为凸凹。43.如申请专利范围第42项之交通工具,其中,前述表面之凸凹为可视光之波长以下的凸凹。图式简单说明:图1,系本发明实施例1之一面为亲水性、另一面为拨水性之玻璃的截面概念图。图2,系本发明实施例2之一面为亲水性、另一面为拨水性之玻璃的截面概念图。图3,系本发明实施例3之一面为亲水性、另一面为拨水性之玻璃的截面概念图。图4,系本发明实施例4之一面为亲水性、另一面为拨水性之玻璃的截面概念图。 |
