主权项 |
1.一种氧化方法,系包括在具有下式(1)所示之醯亚 胺单元化合物存在下,使基质与分子氧触媒,其中 氧化反应系统之水份量系在200莫耳或以下,以前述 1莫耳之化合物所具有醯亚胺单元计。 (式中X代表氧原子或羟基)2.如申请专利范围第1项 之氧化方法,其中具有醯亚胺单元之化合物为如下 式(2)所示: 式中R1和R2可相同或不同,代表氢原子、卤素原子 、烷基、芳基、环烷基、羟基、烷氧基、羧基、 烷氧羰基、醯基,R1和R2可彼此结合成双键、芳族 环或非芳族环,由R1和R2形成之芳族环或非芳族环 可具有上述式(1)所示醯亚胺单元至少其一,而X代 表氧原子或羟基。3.如申请专利范围第2项之氧化 方法,其中R1和R2彼此结合形成可有取代基之环己 烷环,可有取代基之环己烯环,可有取代基之5-原冰 片烯环,或可有取代基之苯环。4.如申请专利范围 第1项之氧化方法,其中由具有式(1)所示醯亚胺单 元之化合物与氧化剂构成氧化触媒。5.如申请专 利范围第4项之氧化方法,其中共氧化剂系含有选 自周期表3族元素、4族元素、5族元素、6族元素、 7族元素、8族元素、9族元素、10族元素、11族元素 及13族元素之至少一种元素的化合物。6.如申请专 利范围第1项之氧化方法,其中基质系选自(i)在烯 丙位或位具有碳-氢键之烃化合物,(ii)可具有取 代基之环烷,(iii)含环烷环或非芳族杂环之缩合环 烃,(iv)含有三级碳之桥接环烃,(v)于邻接不饱和键 之部位具有羟甲基之化合物,(vi)脂环族醇,(vii)具 有三级碳之脂环族醇,(viii)醛化合物,和(ix)酮类之 至少一种。7.如申请专利范围第1项之氧化方法,其 中可具有取代基之环烷以分子氧加以氧化,而生成 相对应环烷酮、环烷醇或二羧酸。8.如申请专利 范围第1项之氧化方法,其中氧化反应系中之水份 量,相对于具有式(1)所示醯亚胺单元之化合物1莫 耳,在0至50莫耳。9.如申请专利范围第1项之氧化方 法,其中相对于基质1莫耳,具有式(1)所示醯亚胺单 元之化合物使用0.01至0.5莫耳,而相对于具有前述 式(1)所示醯亚胺之化合物1莫耳,维持氧化反应系 中的水份量在0至30莫耳。10.如申请专利范围第9项 之氧化方法,其中具有式(1)所示醯亚胺单元之化合 物,与相对于基质1莫耳,0.001至0.1莫耳的共氧化剂, 构成氧化触媒。11.如申请专利范围第1项之氧化方 法,其中将氧化反应生成的水排出反应系外,以便 相对于具有式(1)所示醯亚胺单元之化合物1莫耳, 维持反应系中之水份量在0至30莫耳。12.如申请专 利范围第1项之氧化方法,其中在有机溶剂中进行 氧化反应,将反应生成的水、有机溶剂和具有式(1) 所示醯亚胺单元之化合物分离,分离之有机溶剂再 循环到氧化反应系。 |