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发明名称
ION PLATING APPARATUS
摘要
<p>진공용기(11) 내에 배치된 노(30a)(30b)의 주위에 각각 고리모양의 영구자석을 내장한 보조노(31a)(31b)를 설치한다. 인접하는 2개의 플라즈마건(1A)(1B)에 설치되는 고리모양의 영구자석(21a)(21b)의 자극의 방향, 전자석코일(22a)(22b)의 자극의 방향, 스티어링코일(24a)(24b)의 자극의 방향 및 2개의 노에 내장된 2개의 고리모양 영구자석의 자극 방향을 각각 서로 반대로 하였다.</p>
申请公布号
KR100359302(B1)
申请公布日期
2002.11.01
申请号
KR19997004114
申请日期
1999.05.08
申请人
스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
发明人
사케미토시유키;다나카마사루
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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