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<p>DONDE EL APARATO COMPRENDE: a) UN LASER QUE EMITE PULSOS A UNA FRECUENCIA DE REPETICION DETERMINADA Y A LO LARGO DE UNA TRAYECTORIA DE HAZ DETERMINADA; b) UN DISPOSITIVO OPTICO PARA DIRIGIR LOS PULSOS DE LASER A UNA UBICACION EN UNA SUPERFICIE DEL LIQUIDO, Y PARA GENERAR UN PLASMA QUE EMITE RADIACION ELEMENTAL QUE CORRESPONDE A UN ELEMENTO DE LA COMPOSICION DEL LIQUIDO; c) UN DISPOSITIVO DE MEDICION QUE DETECTA LA RADIACION ELEMENTAL EMITIDA A LO LARGO DE UNA TRAYECTORIA DE DETECCION, QUE INCLUYE UNA VENTANA OPTICA, UN ESPECTROMETRO, UN DETECTOR PARA LA LUZ DIFRACTADA POR EL ESPECTROMETRO, Y UN PROCESADOR DE DATOS QUE DETERMINA UNA CONCENTRACION DE ELEMENTO PREDETERMINADO; d) UN GENERADOR DE FLUJO DE GAS PARA EVITAR QUE LAS GOTAS DE LIQUIDO EXPULSADAS EN RESPUESTA A LOS PULSOS DE LASER INCIDENTES SE ACUMULEN EN LA VENTANA OPTICA DE (c) O A LO LARGO DE LA TRAYECTORIA DE HAZ DE LASER Y DE DETECCION; Y, e) UN MONTAJE DE CELDA DE FLUJO QUE INCLUYE UN CONTROLADOR PARA EL NIVEL DE LA SUPERFICIE DE LIQUIDO Y LA VELOCIDAD DE FLUJO. ADEMAS SE REFIERE A UN METODO PARA ANALISIS POR ESPECTROSCOPIA DE PLASMA LASE INDUCIDO POR LASER PARA LIQUIDO Y MATERIALES FUNDIDOS, EMPLEANDO DICHO APARATO</p> |
