| 发明名称 |
High pressure processing chamber for semiconductor substrate including flow enhancing features |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002252637(A1) |
申请公布日期 |
2002.10.28 |
| 申请号 |
AU20020252637 |
申请日期 |
2002.04.10 |
| 申请人 |
SUPERCRITICAL SYSTEMS INC |
发明人 |
LAYMAN FREDERICK P;BIBERGER MAXIMILIAN A;SUTTON THOMAS R |
| 分类号 |
H01L21/027;B08B3/02;H01L21/00;H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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