发明名称 METHOD FOR PRODUCING OPTICALLY TRANSPARENT REGIONS IN A SILICON SUBSTRATE
摘要 <p>Es wird eine einfache und kostengünstige Möglichkeit zur Erzeugung optisch transparenter Bereiche (5, 6) in einem Siliziumsubstrat (1) vorgeschlagen, mit dem sich sowohl optisch transparente Bereiche beliebiger Dicke als auch optisch transparente Bereiche über einem Hohlraum im Siliziumsubstrat realisieren lassen. Dazu wird zunächst mindestens ein definierter Bereich (5, 6) des Siliziumsubstrats (1) porös geätzt. Danach wird der definierte poröse Bereich (5, 6) des Siliziumsubstrats (1) oxidiert.</p>
申请公布号 WO2002084748(A2) 申请公布日期 2002.10.24
申请号 DE2002000798 申请日期 2002.03.05
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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