发明名称 控制键设备
摘要 一种控制键设备,包括设有一般为圆拱形部分的外壳,中心处有顶表面和孔,外壳中有一底座,其上设有一弹性构件,它在相应底座的电气接触点位置上具有多个凸出部,当凸出部弹性变形时与相应电气接触点电气接触,弹性构件上设置一个具有多个腿的接触压紧构件,键通过圆拱形部分中的孔卡在接触压紧构件上,具有一静止位置和一倾斜位置,还设有用于在倾斜位置或介于倾斜位置和静止位置之间的中间位置阻止键被粘附的机构。
申请公布号 CN1093279C 申请公布日期 2002.10.23
申请号 CN94107733.0 申请日期 1994.05.18
申请人 世嘉企业股份有限公司 发明人 伊达敏范
分类号 G06F3/02 主分类号 G06F3/02
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李强
主权项 1.一种控制键设备,包括:一个外壳,在该外壳的一个任意部分上设置有一个大体拱形的部分,所述拱形部分包括一个具有球面曲率的一个顶表面和设置在该拱形部分的一个中心部分上的一个通孔;一个底座,它被设置在所述外壳中并具有多个电接触部分,每一个所述电接触部分都具有一对电触头;一个弹性构件,它被设置在所述底座上并具有在与所述电接触部分相应的位置处的多个凸出部,所述凸出部每一个都具有一个导电部分,该导电部分当该凸出部发生弹性变形时与相应一对电触头进行电接触;一个接触压紧构件,它被设置在所述弹性构件上并具有在与所述凸出部相应的位置处的多个腿;一个键构件,它经所述外壳的该拱形部分上的所述通孔而被固定在所述接触压紧构件上,所述键构件具有一个静止位置和一个倾斜位置,当所述键构件不受到压力时,在所述键构件的静止位置,所述接触压紧构件处于大体水平的状态且所述腿倚靠在相应凸出部上,当所述键构件受到一个压力时,在所述键构件的倾斜位置,所述腿中的一个使相应的凸出部发生弹性变形以实现相应一对电触头之间的电接触,所述键构件具有一个与所述顶表面相对的滑动表面并具有与所述顶表面相符合的球面曲率,所述键构件的倾斜受到所述滑动表面与所述顶表面的可移动接触的引导;以及装在所述底座之下的一个支撑构件,用于支撑所述底座的形成有所述多个电接触部分的部分。
地址 日本东京