SINGLE SOURCE THERMAL ABLATION METHOD FOR DEPOSITING ORGANIC-INORGANIC HYBRID FILMS

摘要

본 발명은 기판의 표면에 선택된 화학 양론비로 페로브스카이트 물질과 같은 유기 무기 하이브리드 물질의 필름을 형성하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명은 몇 개의 단순한 단계들을 수반한다. 먼저, 기판과 선택된 분량의 유기 무기 하이브리드 물질을 챔버에 공급하여 상기 하이브리드 물질이 히터상에 위치하게 한다. 그런 다음 히터에 전류를 공급함으로써 하이브리드 물질이 모두 융제되도록 충분히 상기 하이브리드 물질을 가열한다. 그 결과 상기 선택된 화학양론적 비율로 유기 무기 하이브리드 물질의 필름이 기판의 표면상의 필름으로 재구성된다. 가열 단계에서, 상기 챔버는 10torr 이하의 압력으로 진공상태로 되거나 질소와 같은 불활성 가스로 충전된다.