| 发明名称 | 预清室的微粒防止方法 | ||
| 摘要 | 一种预清室的微粒防止方法,包括一二氧化硅材提供步骤、及一二氧化硅溅射步骤,其是藉由溅射二氧化硅材方式来产生二氧化硅,并使二氧化硅涂布于一已形成于预清室的钟型缸上的硅化物层上,以避免其硅化物快速剥离,据以达到延长预清室的钟型缸使用时间的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN1374684A | 申请公布日期 | 2002.10.16 |
| 申请号 | CN01110991.2 | 申请日期 | 2001.03.09 |
| 申请人 | 矽统科技股份有限公司 | 发明人 | 郭家铭;黄昭元 |
| 分类号 | H01L21/203;H01L21/00;C23C14/00 | 主分类号 | H01L21/203 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种预清室的微粒防止方法，包括：一二氧化硅材提供步骤，提供一二氧化硅材于该预清室中；及一二氧化硅溅射步骤，于该预清室中产生等离子并溅射该二氧化硅材，而使该二氧化硅材的二氧化硅溅射于该预清室内。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区 | ||