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发明名称 PLASMA DOPING SYSTEM COMPRISING A HOLLOW CATHODE
摘要
申请公布号 EP1249032(A1) 申请公布日期 2002.10.16
申请号 EP20000966770 申请日期 2000.09.20
申请人 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES INC. 发明人 GOECKNER, MATTHEW, J.;FANG, ZIWEI
分类号 H05H1/46;C23C14/48;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/32;C23C16/50 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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