| 发明名称 | 曝光方法及曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种曝光方法,适用于在基板(P)上接合图案(A、B)以曝光出所希望的图案,此方法是进行一预备曝光工艺以于基板上曝光出与图案(A、B)不同的第一标记(MK)以及接合图案(A、B)。然后,进行一设定工艺,此设定工艺根据基板上所曝光的第一标记(MK)与图案(A、B)之间的相对位置关系,以设定曝光接合图案(A、B)时的补正量。 | ||
| 申请公布号 | CN1374561A | 申请公布日期 | 2002.10.16 |
| 申请号 | CN02106809.7 | 申请日期 | 2002.03.05 |
| 申请人 | 尼康株式会社 | 发明人 | 堀和彦 |
| 分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，适用于在一基板上接合一图案并曝光出所希望图案，其特征为：该方法包括：进行一预备曝光工艺以于该基板上曝光出与该图案不同的一第一标记与一接合图案；以及进行一设定工艺，该设定工艺根据曝光于该基板上的该第一标记与该图案间的相对位置关系，设定曝光该接合图案时的补正量。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||