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经营范围
发明名称
Chemical vapor deposition apparatus and method
摘要
申请公布号
GB0220898(D0)
申请公布日期
2002.10.16
申请号
GB20020020898
申请日期
2002.09.09
申请人
HOWMET RESEARCH CORPORATION
发明人
分类号
C23C16/44;C23C16/448;C23C16/455
主分类号
C23C16/44
代理机构
代理人
主权项
地址
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