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发明名称 A METHOD TO FORM SELF-SEALING AIR GAPS BETWEEN METAL INTERCONNECTS
摘要
申请公布号 SG91906(A1) 申请公布日期 2002.10.15
申请号 SG20010001791 申请日期 2001.03.21
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, LTD. 发明人 YELEHANKA RAMACHANDRAMURTHY PRADEEP;VIJAI KUMAR CHHAGAN;HENRY GERUNG;MADHUSUDAN MUKHOPADHYAY
分类号 H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
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