| 发明名称 |
SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG91902(A1) |
申请公布日期 |
2002.10.15 |
| 申请号 |
SG20010001509 |
申请日期 |
2001.03.13 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
KUNIE OGATA;RYOUICHI UEMURA;MASANORI TATEYAMA;YOSHIYUKI NAKAJIMA |
| 分类号 |
G03F7/16;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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