| 主权项 |
1.一种制备滤色片或数位资讯存储材料之方法,该 滤色片或数位资讯存储材料包括一基材,其上涂有 一颜料层,该颜料层系由一种式(I)之颜料或其颜料 混合物或其取代之衍生物或其位置异构物组成, A(D1)(D2)x (I) 式(I)中A为一啶酮、 、、靛蓝、偶氮基 、喏酮、异二氢酮、异二氢、二 、花青或二酮咯并咯系列之发色基之自 由基,其含与D1及x个D2连接之氮原子,存在于A中之 每一个氮原子可各自独立地与0.1或2个D1或D2基连 接,及 D1及D2为氢,x为一从0到4之整数, 该方法包括 (a)用一式(III)之潜隐颜料或其取代之衍生物或其 位置异构物之溶液或熔融物涂敷基材, A(D3)(D4)x (III), 式(III)中之A及x具有如式(I)中相同之意义,A含与D3 及x个D4连接之氮原子,及存在于A中之每一个氮原 子可各自独立地与0.1或2个D3或D4基连接,及 D3及D4各自独立,为式(V)之基 式(V)中之X为C1-C14伸烷基、C2-C14伸烯基、C2-C14伸炔 基、C4-C12伸环烷基或C4-C12伸环烯基,m为0或1,及Q为 氢, (b)利用消去D3及D4基并将其用氢取代,将潜隐颜料 部份或完全转化成不溶解之颜料形式,及 (c)藉由一溶剂去除残留之潜隐颜料。2.如申请专 利范围第1项之方法,其中之基材系在步骤(a)中实 施部份表面涂层。3.如申请专利范围第1项之方法, 其中步骤(a)系利用液浸法、喷雾法、印刷法、帘 涂法、刮涂法或旋涂法达成。4.如申请专利范围 第3项之方法,其中步骤(a)系利用旋涂法达成。5.如 申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)系使用一 聚焦雷射光束达成。6.如申请专利范围第1项之方 法,其中步骤(b)系利用热源之接近作用达成。7.如 申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)系利用暴 露在一有机或无机布忍斯特(Bronsted)或路易士( Lewis)酸或一硷之蒸汽下达成。8.如申请专利范围 第1项之方法,其中步骤(b)仅在选择区达成。9.如申 请专利范围第8项之方法,其中步骤(b)系用一程式 化控制达成。10.如申请专利范围第1项之方法,其 中之基材表面用连续涂层方法涂上两种或多层颜 料层,每涂一次要重覆步骤(a)至(c)。11.一种滤色片 ,该滤色片包括一基材,其上涂有一颜料层,该颜料 层系由一种式(I)之颜料或其颜料混合物或其取代 之衍生物或其位置异构物组成, A(D1)(D2)x (I) 式(I)中A为一啶酮、 、、靛蓝、偶氮基 、喏酮、异二氢酮、异二氢、二 、花青或二酮咯并咯系列之发色基之自 由基,其含与D1及x个D2连接之氮原子,存在于A中之 每一个氮原子可各自独立地与0.1或2个D1或D2基连 接, D1及D2为氢,x为一从0到4之整数, 该涂层在基材之部份表面上实质上是均匀的,而在 其余表面上则没有该颜料涂层。12.如申请专利范 围第11项之滤色片,其中一颜料涂层有一解析度为 10-50微米之结构化颜色图案。13.如申请专利范围 第11项之滤色片,其具有一额外保护层。14.如申请 专利范围第11项之滤色片,其中基材涂有多数颜料 涂层,该多数颜料涂层不会形成相等覆盖范围之图 案,而具有不同之吸收及/或不同之最大吸收。15. 如申请专利范围第14项之滤色片,其中之颜料涂层 含有因其性质及排列能产生蓝、绿及红色区域之 颜料,其中之基材为透明的。16.如申请专利范围第 11项之滤色片,其中不同厚度,含相同颜料或同一颜 色颜料之多数颜料涂层形成图案,该图案使在每一 有一颜料涂层之像素上,由所有重叠之颜料涂层强 度总和产生之总吸收为最小吸收之倍数。17.如申 请专利范围第11项之滤色片,其系用作滤色器。18. 一种数位资讯存储材料,该数位资讯存储材料包括 一基材,其上涂有一颜料层,该颜料层系由一种式(I )之颜料或其颜料混合物或其取代之衍生物或其位 置异构物组成, A(D1)(D2)x (I) 式(I)中A为一啶酮、 、、靛蓝、偶氮基 、喏酮、异二氢酮、异二氢、二 、花青或二酮咯并咯系列之发色基之自 由基,其含与D1及x个D2连接之氮原子,存在于A中之 每一个氮原子可各自独立地与0.1或2个D1或D2基连 接, D1及D2为氢,x为一从0到4之整数, 该涂层在基材之部份表面上实质上是均匀的,而在 其余表面上则没有该颜料涂层。19.如申请专利范 围第18项之数位资讯存储材料,其中一颜料涂层有 一解析度为10-50微米之结构化颜色图案。20.如申 请专利范围第18项之数位资讯存储材料,其具有一 额外保护层。21.如申请专利范围第18项之数位资 讯存储材料,其中基材涂有多数颜料涂层,该多数 颜料涂层不会形成相等覆盖范围之图案,而具有不 同之吸收及/或不同之最大吸收。22.如申请专利范 围第18项之数位资讯存储材料,其系用来永久存储 数位资讯。 |
