发明名称 具有防止带电构造之横电场方式液晶显示装置
摘要 本发明的目的在于即使从液晶显示板的表面外部施加静电等较高电位时,亦能防止显示异常的发生,在使用较高电阻系数的树脂组成物之黑色矩阵时,界定偏光板、黑色矩阵、密封部、筐体的开口领域之位置,可防止来自有效像素领域的周边部之光泄漏。以偏光板及筐体遮蔽无法只以黑色矩阵遮敝之背光的泄漏,在偏光板的近旁形成薄层电阻2×1014Ω/□以下的透明导电膜之层,电连接该导电膜与导电性的筐体之构成。
申请公布号 TW505801 申请公布日期 2002.10.11
申请号 TW085112011 申请日期 1996.10.02
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 柳川和彦;太田益幸;小川和宏;启一郎;箭内雅弘;小西信武;衣川清重
分类号 G02F1/13;G02F1/133;G02F1/136 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种液晶显示装置,系为针对介由液晶层相互对 向而配置,至少1个为透明的2个基板当中,单位像素 内,在第1基板上方,具备开关元件及像素电极及对 向电极,在该像素电极与对向电极之间,藉与该第1 基板略平行所发生的电场,来调变通过前述液晶层 之光的构成之液晶显示装置; 其特征为:在第1与第2基板之间,具备电阻系数为大 于106cm的黑色矩阵,而且在与观测之侧之透明 基板的液晶层为相反侧之面上方,备有透光性之薄 层电阻値在21014/以下的导电层,至少被形成 在像素形成领域, 前述第1及第2基板为透明,进而将背光组件备于前 述第1基板的下方,所被观察侧的基板为第2基板, 前述导电层之光透过率为高于34%, 前述导电层系为下述导电层之任一, (1)系为在贴着于前述第2透明基板的第2偏光板之 粘着材中,使其分散导电性粒子而构成之导电层, 该导电性粒子系为炭素或 含有ITO、SnO2.In2O3之中的一种之粒子,或其混合所 形成, (2)系为介隔第2透明基板与第2偏光板之间的导电 薄层, (3)系为介隔第2透明基板与第2偏光板之间的透明 导电膜之导电层,该透明导电膜系以ITO、SnO2.In2O3 之中之任一为主成分之膜, (4)系为被形成在第2偏光板表面之透明导电膜,该 透明导电膜,系为以ITO、SnO2.In2O3之中的任一种作 为主成分之膜。2.如申请专利范围第1项之液晶显 示装置,其中前述导电层系被接地。3.如申请专利 范围第1项之液晶显示装置,其中具有具备使其露 出前述显示部之开口部之导电性筐体,前述导电层 系为介由薄层电阻値为低于1108/的导电性材 料而被连接至前述筐体。4.如申请专利范围第3项 之液晶显示装置,其中前述导电性材料,系为导电 橡胶。5.如申请专利范围第3项之液晶显示装置,其 中前述导电性材料,系为银浆。6.如申请专利范围 第3项之液晶显示装置,其中前述导电性材料,系为 金属箔带。7.如申请专利范围第3项之液晶显示装 置,其中前述导电性材料,系为含有导电性粒子或 是导电性纤维的双方或是一方之有机材料。8.如 申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中前述黑 色矩阵以树脂组成物所形成。9.如申请专利范围 第8项之液晶显示装置,其中前述黑色矩阵的膜厚 以低于2m所形成。10.一种液晶显示装置,系为针 对备有液晶显示板、及背光组件,前述液晶显示板 ,系为在介由液晶层相互对向而被配置的透明基板 之间,单位像素内,具备像素电极及对向电极,在此 像素电极与对向电极之间,使用与透明基板略平行 所产生的电场,来调变透过前述液晶层之光的构成 ; 其特征为:在观测者侧的透明基板面上方与该透明 基板之间具有间隙而被配置有透明保护板, 前述保护板具备有导电膜, 前述导电膜系被接地, 前述液晶显示板及背光组件被内藏在导电性的筐 体,且保护板被支撑在前述筐体, 前述2个对向的基板上之各个偏光板的偏光轴为相 互90偏离。11.一种液晶显示装置,系为针对介由液 晶层相互对向而配置,至少1个为透明的2个基板当 中,单位像素内,在第1基板上方,具备开关元件及像 素电极及对向电极,在该像素电极与对向电极之间 ,藉与该第1基板略平行所发生的电场,来调变通过 前述液晶层之光的构成之液晶显示装置; 其特征为:在与观测之侧之透明基板之液晶层为相 反侧之面上,具光透过率为34%以上之透光性之导电 层至少形成于像素形成领域内, 前述第1及第2基板为透明,进而将背光组件备于前 述第1基板的下方,观察侧的基板为第2基板, 前述导电层,其薄层电阻値为低于21014/, 前述导电层系为下述导电层之中之任一, (1)系为在贴着于前述第2透明基板的第2偏光板之 粘着材中,分散导电性粒子而构成之导电层,该导 电性粒子系为炭素,或 含有ITO、SnO2.In2O3当中的一种之粒子,或其混合所 形成, (2)系为介于第2透明基板与第2偏光板之间的导电 薄层之导电层, (3)系为介于第2透明基板与第2偏光板之间的透明 导电膜,以ITO、SnO2.In2O3之中的任一为主成分之膜 构成之导电层, (4)系包含于第2偏光板之导电层, 前述导电层系包含于第2偏光板, 而且前述导电层系被接地。12.一种液晶显示装置, 系为针对介由液晶层相互对向而配置,至少1个为 透明的2个基板当中,单位像素内,在第1基板上方, 具备开关元件及像素电极及对向电极,在该像素电 极与对向电极之间,藉与该第1基板略平行所发生 的电场,来调变通过前述液晶层之光的构成之液晶 显示装置; 其特征为:在观测之侧之透明基板之液晶层的相反 侧之面上方,备有透光性的导电层至少被形成在像 素形成领域,藉由该导电层来防止外部电荷所引起 上述液晶层内部之电场紊乱。13.一种液晶显示装 置,系为针对介由液晶层相互对向而配置,至少1个 为透明的2个基板当中,单位像素内,在第1基板上方 ,具备开关元件及像素电极及对向电极,在该像素 电极与对向电极之间,藉与该第1基板略平行所发 生的电场,来调变通过前述液晶层之光的构成之液 晶显示装置; 其特征为:在观测之侧之透明基板之液晶层的相反 侧之面上方,备有透光性的导电层至少被形成在像 素形成领域,藉由该导电层来防止面板表面摩擦时 画面变白之事,而且该防止在该面板之显示画面为 黑显示时较显着。14.一种液晶显示装置,系为针对 介由液晶层相互对向而配置,至少1个为透明的2个 基板当中,单位像素内,在第1基板上方,具备开关元 件及像素电极及对向电极,在该像素电极与对向电 极之间,藉与该第1基板略平行所发生的电场,来调 变通过前述液晶层之光的构成之液晶显示装置; 其特征为:在观测之侧之透明基板之液晶层之相反 侧之面上方,备有透光性的导电膜至少被以溅射法 形成在像素形成领域, 上述液晶层系在2.5m-4.5m之范围, 上述导电膜系由含ITO、SnO2.In2O3中之任一之粒子, 或其混合物形成者, 其薄层电阻値为21014/以下。15.一种液晶显示 装置,系为针对介由液晶层相互对向而配置,至少1 个为透明的2个基板当中,单位像素内,在第1基板上 方,具备开关元件及像素电极及对向电极,在该像 素电极与对向电极之间,藉与该第1基板略平行所 发生的电场,来调变通过前述液晶层之光的构成之 液晶显示装置; 其特征为:在观测之侧之透明基板之液晶层之相反 侧之面上方,配置偏光板,该偏光板包含具透光性 的导电层,而且在观察侧之透明基板之液晶层侧之 面上,不存在有导电膜之配线图型, 上述导电层,系由含有ITO、SnO2.In2O3中任一之粒子, 或其混合物形成者, 其薄层电阻値为21014/以下。图式简单说明: 第1图系为第1实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第2图系为第2实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第3图系为第3实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第4图系为第4实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第5图系为第5实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第6图系为第6实施例,且是筐体开口领域周边之要 部扩大断面图。 第7图系为过去例,且是筐体开口领域周边之要部 扩大断面图。 第8图系为表示在于过去的横电场方式液晶显示装 置所发生的电场之模式断面图。 第9图系为表示加入电界方向、研磨方向、偏光板 透过轴的关系之图。 第10图系为表示本发明主动矩阵型彩色液晶显示 装置之液晶显示部的一像素及其周边之要部平面 图。 第11图系为第10图的4-4切断线之薄膜电晶体元件TFT 的断面图。 第12图系为第10图的5-5切断线之储存容量Cstg的断 面图。 第13图系为表示基板SUB1侧的过程A-C之制造过程之 薄膜电晶体部与闸极端子部的断面流程图。 第14图系为表示基板SUB1侧的过程D-F之制造过程之 薄膜电晶体部与闸极端子部的断面流程图。 第15图系为表示基板SUB1侧的过程G-H之制造过程之 薄膜电晶体部与闸极端子部的断面流程图。 第16图系为横电场方式液晶显示元件的影像显示 领域之1像素的电极近旁的断面图与基板周边部的 断面图之图。 第17图系为用以说明显示板的矩阵周边部之构成 平面图。 第18图系为含有本发明主动矩阵型彩色液晶显示 装置之矩阵部及其周边之电路图。 第19图系为表示本发明主动矩阵型彩色液晶显示 装置的驱动波形之图。 第20图系为表示在液晶显示板安装周边的驱动电 路之状态的上面图。 第21图系为液晶显示模组的分解斜视图。 第22图系为第21图的F-F切断线之液晶显示模组的断 面图。 第23图系为第7实施例,且是液晶显示装置之要部断 面图。 第24图系为第8实施例,且是液晶显示装置之要部断 面图。 第25图系为说明安装了本发明液晶显示装置之资 讯处理装置的一例之个人电脑外观图。
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