发明名称 滤色器之缺陷修正方法
摘要 令滤色器制造工程所产生的缺陷可轻易修正,且大幅提高良品率为其目的,于照射雷射将滤色器之缺陷部除去时,以雷射的直径将缺陷部设定于圆形修正区域M,且于圆形修正区域除去后,以油墨吐出装置将修正油墨G’于圆形修正区域的上面滴下,其后,以油墨硬化装置令修正油墨硬化、收缩。
申请公布号 TW505796 申请公布日期 2002.10.11
申请号 TW089112263 申请日期 2000.06.22
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 中繁容;渡 卓司
分类号 G02B5/20;G02F1/13;G02F1/1335 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种滤色器之缺陷修正方法,其特征为在以雷射 照射除去滤色器之缺陷部时,将雷射的直径设定于 包含缺陷部的圆形修正区域,于圆形修正区域除去 后,以油墨吐出装置将修正油墨于圆形修正区域的 上面滴下,其后,以油墨硬化装置令修正油墨硬化 、收缩。2.一种滤色器之缺陷修正方法,其特征为 在以雷射照射除去滤色器之缺陷部时,将雷射的直 径设定于包含缺陷部的圆形修正区域,于圆形修正 区域除去后,于圆形修正区域中经由雷射化学气相 沈积法(CVD)令金属膜淀积。3.如申请专利范围第2 项之滤色器之缺陷修正方法,其中经由雷射化学气 相沈积法(CVD)所淀积之金属膜为以铬或钨作为主 成分。4.如申请专利范围第2或3项之滤色器之缺陷 修正方法,其中经由雷射照射所除去之缺陷部为黑 色缺陷。图式简单说明: 图1为用以说明本发明中滤色器之缺陷修正方法之 一实施形态的构成图。 图2为用以说明图1中雷射直径设定之图示。 图3(A)-(C)为用以说明图1之实施例1之图示。 图4(A)-(D)为用以说明图1之实施例2之图示。 图5(A)-(C)为用以说明图1之比较例之图示。 图6为用以说明滤色器缺陷之放大截面图。
地址 日本