| 摘要 |
提供一种不致降低处理能力、高精度地检测基板焦点方向之位置的曝光装置。其具备将图案投影于基板P的投影光学系统，以及藉检测光来检测相对投影光学系统成像位置之基板P之位置资讯的位置检测装置11,12。位置检测装置11,12，系具有将基板P之第1位置P1,P3所反射的检测光朝与第1位置P1,P3分离的第2位置P2,P4加以送光的送光部11B,12B，以及将第1位置P1,P3与第2位置P2,P4所反射的检测光加以受光的受光部33，并设置复数个位置检测装置11,12。 |
| 主权项 |
1.一种曝光装置,具备将图案投影于基板之投影光 学系统,与藉由检测光来检测相对该投影光学系统 成像位置之基板之位置资讯的位置检测装置,其特 征在于,前述位置检测装置,具有: 送光部,以将前述基板之第1位置所反射的前述检 测光,送至离开前述第1位置之第2位置;以及 受光部,以接受前述第1位置与前述第2位置所反射 的前述检测光; 前述位置检测装置系设置复数个。2.如申请专利 范围第1项之曝光装置,其中,前述位置检测装置系 检测偏离前述投影光学系统之光轴正下方之前述 基板的位置资讯。3.如申请专利范围第1或2项之曝 光装置,其中,前述复数个位置检测装置中,第1位置 检测装置与第2位置检测装置系配置成大致正交。 4.一种曝光装置,具备将图案投影于基板之投影光 学系统,与藉由检测光来检测相对该投影光学系统 成像位置之基板前述之位置资讯的位置检测装置, 其特征在于,前述位置检测装置,具有: 第1检测装置,以检测前述投影光学系统之光轴正 下方之前述基板的位置资讯;以及 第2检测装置,以检测偏离前述投影光学系统之光 轴正下方之前述基板的位置资讯。5.如申请专利 范围第4项之曝光装置,其中,前述第2检测装置,具 有: 送光部,以将前述基板之第1位置所反射的前述检 测光,送至离开前述第1位置之第2位置;以及 受光部,以接受前述第1位置与前述第2位置所反射 的前述检测光。6.如申请专利范围第4或5项之曝光 装置,其中,前述第2检测装置系设置复数个。7.如 申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述投影光 学系统系等倍系统之投影光学系统。8.如申请专 利范围第4项之曝光装置,其中,前述投影光学系统 系等倍系统之投影光学系统。9.如申请专利范围 第1项之曝光装置,其具备调整装置,以根据前述复 数个位置检测装置之检测结果,来调整前述基板之 位置。10.如申请专利范围第4项之曝光装置,其具 备调整装置,以根据前述第1检测装置与前述第2检 测装置之检测结果,来调整前述基板之位置。图式 简单说明: 第1图为本发明之实施形态之示意图,具有自动聚 焦机构之曝光装置之概略构成图。 第2图为表示相对于玻璃基板之自动聚焦机构之配 置之俯视图。 第3图为构成自动聚焦机构之自动聚焦系统之概略 构成图。 第4图为表示自动聚焦系统之其他形态之俯视图。 第5图系显示液晶显示面板之制造步骤例的流程图 。 |
