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发明名称 Herstellungsverfahren für Halbleiteranordnung unter Verwendung der selektiven CVD-Methode
摘要
申请公布号 DE69429951(T2) 申请公布日期 2002.10.10
申请号 DE1994629951T 申请日期 1994.07.01
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI 发明人 OHSHIMA, YOICHI;AOCHI, HIDEAKI
分类号 H01L21/285;H01L21/28;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/285 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
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