发明名称 |
Positiv arbeitende Resistzusammensetzungen des chemischen Verstärkungstyps |
摘要 |
Eine positiv arbeitende Resistzusammensetzung des chemischen Verstärkungstyps mit gut ausgewogener Auflösung und Empfindlichkeit, die minimale Schrumpfung durch Bestrahlen mit Elektronenstrahlen von SEM erleidet und ein Harz umfasst, das eine von einem ungesättigten Monomer der folgenden Formel (I) abgeleitete Polymerisationseinheit aufweist und das selbst in Alkali unlöslich ist, aber durch Wirkung einer Säure alkalilöslich wird; und ein säurebildendes Mittel: DOLLAR F1 in der R¶1¶ und R¶2¶ jeweils unabhängig ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellen, wird bereitgestellt.
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申请公布号 |
DE10206378(A1) |
申请公布日期 |
2002.10.10 |
申请号 |
DE20021006378 |
申请日期 |
2002.02.15 |
申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
UETANI, YASUNORI;FUJISHIMA, HIROAKI;ARAKI, KAORU |
分类号 |
G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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