发明名称 光敏树脂印板的制备方法
摘要 一种用于光敏树脂印板的显影剂,含有一种显影溶液和一种能够在采用有源辐射照射的情况下从化合物中吸收氢原子的夺氢剂,和一种用于制备光敏树脂印板的方法,包括将已曝光的光敏树脂采用上述显影剂显影,之后采用有源辐射照射制成的固化印板的表面。
申请公布号 CN1092346C 申请公布日期 2002.10.09
申请号 CN97102492.8 申请日期 1997.02.20
申请人 旭化成株式会社 发明人 吉田正宏;藤冈健治
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王杰
主权项 1.光敏树脂印板的制备方法,其中包括对已曝光的光敏树脂借助含有用于光敏树脂的显影剂和以给定数量溶解或均匀地分散在所述显影剂中并且能够在有源辐射照射下从具有活泼氢原子的化合物中吸收氢原子的夺氢剂的组合物进行显影处理的步骤以及随后借助有源辐射照射制成的固化印板表面的步骤。
地址 日本大阪府