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发明名称 A METHOD OF IMPROVING PHOTOMASK GEOMETRY
摘要
申请公布号 KR20020075416(A) 申请公布日期 2002.10.04
申请号 KR1020027010496 申请日期 2002.08.13
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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