| 摘要 |
Um ein Korrekturmuster für eine Photomaske unter Verwendung eines Werkzeuges für computergestütztes Konstruieren (CAD) zu erzeugen, kann die zu verarbeitende Datenmenge gegenüber konventionellen Lösungen verringert werden. Nach Erzeugen eines Originalmusters wird ein Korrekturmuster, das optischen Nachbarschaftseffekten Rechnung trägt, auf Basis einer Blockeinheitbasis und nicht eines Gesamtarrays erzeugt. Korrekturdaten für jeden Block können Mustermerkmale benachbarter Blöcke berücksichtigen. |
