发明名称 雷射处理系统
摘要 雷射振荡器6系配置一Q开关单元,此Q开关单元之操作系由一Q开关控制脉冲加以控制,且包含光学共振器7,此光学共振器在Q开关单元因Q开关控制脉冲而开启时会停止振荡,而在Q开关单元关闭时会正常振荡。光学开关单元系配置于一雷射振荡器与一对象物间之光学路径上,其中此对象物系为欲以雷射振荡器所放射出之雷射脉冲进行处理之对象物,此光学开关单元系在一光学开关脉冲之控制下,用以传送或阻断雷射光。电脑1系提供I/O资料,此 I/O资料标记着使Q开关单元周期性地操作之重复频率,且更标记着Q开关单元开启之期间,以作为振动期间。控制单元2产生具有I/O资料所标记之一重复频率之一Q开关频率脉冲;以及产生与Q开关频率脉冲同步之一Q开关控制脉冲。Q开关控制脉冲具有相当于I/O资料标记为振动期间之周期的宽度。此外,控制单元2亦会产生与Q开关控制脉冲同步之一光学开关脉冲,此光学开关脉冲具有相当于预定为雷射光传送周期之期间的脉冲宽度。
申请公布号 TW504879 申请公布日期 2002.10.01
申请号 TW090123696 申请日期 2001.09.24
申请人 电气股份有限公司 发明人 堀越 聪;大田 孝二
分类号 H01S3/11;B23K26/00 主分类号 H01S3/11
代理机构 代理人 周良谋 新竹巿东大路一段一一八号十楼
主权项 1.一种雷射处理系统,包含: 一雷射振荡器,具有包含一Q开关单元之光学共振 器,此Q开关单元系由一Q开关控制脉冲所控制,该雷 射振荡器在Q开关单元因Q开关控制脉冲之控制而 开启时,会停止振荡并透过振动(pumping)储存光能量 ,且在Q开关单元关闭时,执行正常振荡; 一光学开关单元,用以在一光学开关脉冲之控制下 传送或阻断雷射光,该光学开关单元系配置于该雷 射振荡器与一对象物之间的光学路径上,此对象物 系为欲以该雷射振荡器所放射之雷射脉冲执行雷 射处理之对象物; 一电脑,用以提供一I/O资料,此I/O资料系标记:雷射 处理之起始时间;在该雷射处理之起始时间后,使Q 开关单元周期性地操作之重复频率;以及Q开关开 启之周期,以标记出一振动周期; 一控制单元,用以产生:具有该I/O资料所标记之重 复频率之Q开关频率脉冲;在每一个该Q开关频率脉 冲之周期内,与该Q开关频率脉冲同步之Q开关控制 脉冲,该Q开关控制脉冲在I/O资料标记为振动周期 之期间内,具有一第一逻辑位准,且在其他期间内 具有一第二逻辑位准,该Q开关控制脉冲之该第二 逻辑位准会使该Q开关单元关闭; 以及与具有,如脉冲宽度,标记为雷射光传送周期 之该Q开关控制脉冲同步之光学开关脉冲; 一Q开关驱动器,用以接收该Q开关控制脉冲,并根据 该Q开关控制脉冲以控制该Q开关单元;以及 一光学开关驱动器,用以接收该光学开关脉冲,并 根据该光学开关脉冲以控制开光学开关单元。2. 如申请专利范围第1项之雷射处理系统,其中,该控 制单元包含一雷射控制单元,而该雷射控制单元则 包含: 一解码器,用以将电脑所提供之I/O资料解码; 一基准钟脉冲振荡器,用以产生基准钟脉冲信号; 一程控分频电路,用以将该基准钟脉冲信号进行分 频,以产生具有该解码之I/O资料所标记之一重复频 率之Q开关频率脉冲; 一第一计时电路,用以接收该Q开关频率脉冲、该 基准钟脉冲信号、以及该解码之I/O资料,并利用该 基准钟脉冲信号作为时序信号,以产生与该Q开关 频率脉冲同步之一Q开关控制脉冲;以及 一第二计时电路,用以接收该第一计时电路所提供 之该Q开关控制脉冲及该基准钟脉冲信号,并利用 该基准钟脉冲信号作为时序信号,以产生与该Q开 关控制脉冲同步之光学开关脉冲。3.如申请专利 范围第2项之雷射处理系统,其中,该Q开关控制脉冲 之上升缘系与该Q开关频率脉冲之下降缘同步,而 该Q开关控制脉冲之下降缘系与该光学开关脉冲之 上升缘同步。4.如申请专利范围第2项之雷射处理 系统,其中,由该第一计时电路所产生之Q开关控制 脉冲之脉冲宽度系为可程控的。5.如申请专利范 围第1项之雷射处理系统,其中,该Q开关控制脉冲在 处理之起始时间前或中止处理时,具有一第二逻辑 位准。6.如申请专利范围第2项之雷射处理系统,其 中,该控制单元更包含一量测比较/决定单元,用以 量测欲处理对象物之预定项目,比较量测値与目标 値,以及判定是否需要额外之雷射处理;以及 该雷射控制单元更包含一逻辑电路,此逻辑电路系 配置于该程控分频电路与该第一计时电路之间,且 用以接收该Q开关频率脉冲及该量测比较/决定单 元之判定结果;当该量测比较/决定单元判定需要 额外之雷射处理时,该逻辑电路会传送该Q开关频 率脉冲至该第一计时电路,而在该量测比较/计时 电路未判定需要额外之雷射处理时,该逻辑电路会 防止该Q开关频率脉冲传送至该第一计时电路。图 式简单说明: 图1为习知技术之一种典型的Q开关控制雷射振荡 气之主要元件的方块图; 图2为显示图1之控制单元2内所设之雷射控制单元3 之构造的方块图; 图3为说明图1装置内之雷射脉冲之放射时间的时 序图; 图4为说明参考文献3内所描述之雷射处理系统之 构造的方块图; 图5为显示图4装置内之量测单元35之结构之方块图 ; 图6为说明参考文献3之装置之操作的信号时序图; 图7为显示本发明雷射处理系统之第1实施例之构 造的方块图; 图8为显示第1实施例之雷射控制单元3之构造的方 块图; 图9为用以控制第1实施例之雷射处理系统之每一 个部位之信号时序图; 图10为显示本发明雷射处理系统之第2实施例之构 造的方块图。
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