发明名称 |
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA COPIAR UN PATRON TRANSPARENTE SOBRE UN MATERIAL FOTOSENSIBLE. |
摘要 |
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y UN DISPOSITIVO PARA COPIA DE UN MODELO TRANSPARENTE SOBRE EL MATERIAL SENSIBLE A LA LUZ, DONDE PARA LA ILUMINACION DE LA MUESTRA SE HA PREVISTO UNA INSTALACION DE ILUMINACION, QUE MUESTRA UNA MULTIPLICIDAD DE PUNTOS CONECTABLES CLAROS U OSCUROS, CONTROLABLES INDIVIDUALES, QUE SON CONTROLADOS POR MEDIO DE UNA IMAGEN DE RETICULO. LA IMAGEN DE RETICULO SE GENERA DE ACUERDO CON EL PROCEDIMIENTO DE DIFUSION DE FALLOS A PARTIR DE VALORES DE DENSIDAD DE LA MUESTRA, QUE SON DETERMINADOS PREVIAMENTE CON DISOCIACION DE ETAPAS DE GRIS Y CON LOCALIZACION PREVIAMENTE DETERMINADA. PARA EL RETICULADO DE DIFUSION DE FALLOS SE APLICA A TRAVES DE LA IMAGEN DE SALIDA UNA VIA QUE PUDE SER ACCIDENTALMENTE PURA O EN CONTRAPARTIDA CAOTICA, POR EJEMPLO UNA CURVA PEANO O UNA VIA HILBERT.
|
申请公布号 |
ES2172845(T3) |
申请公布日期 |
2002.10.01 |
申请号 |
ES19980117310T |
申请日期 |
1998.09.12 |
申请人 |
AGFA-GEVAERT AG |
发明人 |
DELABASTITA, PAUL A.;FINDEIS, GUNTER;FURSICH, MANFRED, DR.;MOSELER, JOSEF |
分类号 |
G03B27/72;H04N1/405;(IPC1-7):G03B27/72 |
主分类号 |
G03B27/72 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|