| 摘要 |
<p>본 발명은 산업용 재료, 부품 및 조립품등의 피세정물을 습식세정 및 건조시키기 위한 장치와 그 방법에 관한 것으로서, 특히 반도체소자 제조공정에서 반도체 웨이퍼상에 존재하고 있는 각종 오염물질(각종 금속이온류 및 입자)을 화공약품과 순수(또는 탈이온수)를 이용하여 최종세정 및 건조시키는 장치와 그 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 피세정물이 건조를 위한 이동시에 대기중으로 노출되는 것을 방지하여 대기노출로 인한 불량발생률을 획기적으로 감소시켜 제품의 수율을 증가시킬 수 있으며, 순수를 피세정물의 상부로부터 공급하여 하부로 배출시키기 때문에 최종세정의 효과를 극대화시킴과 동시에 작업 시간을 단축하여 그에 상응하는 생산성 향상을 기대할 수 있으며, 최종세정에 사용된 순수를 거의 전량 회수하여 재활용할 수 있기 때문에 순수를 제조하는데 소요되는 비용의 절감 효과도 기대할 수 있다.</p> |
