| 发明名称 |
METHOD OF MAKING OHMIC CONTACT TO SEMICONDUCTOR DEVICES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3579375(A) |
申请公布日期 |
1971.05.18 |
| 申请号 |
USD3579375 |
申请日期 |
1968.10.18 |
| 申请人 |
RCA CORP. |
发明人 |
EDMUND WONILOWICZ;HENRY F. MACHNACZ |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/00;H01L21/288;H01L23/485;(IPC1-7):B44D1/14 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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