发明名称 Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung
摘要 Die Zusammensetzung schließt (A) ein Alkali-lösliches Harz, (B) einen Chinondiazidester einer durch die folgende Formel dargestellten Verbindung: DOLLAR F1 und (C) eine durch die folgende Formel dargestellte Verbindung ein: DOLLAR F2 Diese Zusammensetzung ist eine Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung, die ausgezeichnet in Empfindlichkeit und Auflösung ist und weniger Schrumpfung verursacht.
申请公布号 DE10201452(A1) 申请公布日期 2002.09.26
申请号 DE20021001452 申请日期 2002.01.16
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 KURIHARA, MASAKI;SUZUKI, TAKAKO;MARUYAMA, KENJI;NIIKURA, SATOSHI;DOI, KOUSUKE
分类号 G03F7/039;G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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