发明名称 |
Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung |
摘要 |
Die Zusammensetzung schließt (A) ein Alkali-lösliches Harz, (B) einen Chinondiazidester einer durch die folgende Formel dargestellten Verbindung: DOLLAR F1 und (C) eine durch die folgende Formel dargestellte Verbindung ein: DOLLAR F2 Diese Zusammensetzung ist eine Positiv-Fotoresist-Zusammensetzung, die ausgezeichnet in Empfindlichkeit und Auflösung ist und weniger Schrumpfung verursacht.
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申请公布号 |
DE10201452(A1) |
申请公布日期 |
2002.09.26 |
申请号 |
DE20021001452 |
申请日期 |
2002.01.16 |
申请人 |
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. |
发明人 |
KURIHARA, MASAKI;SUZUKI, TAKAKO;MARUYAMA, KENJI;NIIKURA, SATOSHI;DOI, KOUSUKE |
分类号 |
G03F7/039;G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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