| 主权项 |
1.一种隐形眼镜,其包含一前表面,一后表面和一识 别记号,该识别记号至少位在该前后表面其中之一 面上;其中该识别记号包含一具有一顶部及一底部 之下陷区域,该下陷区域之顶部是该下陷区域之表 面与该隐形眼镜之前表面或后表面交会之处,该下 陷区域之表面的其余部分是该下陷区域之底部;其 中对该下陷表面之底部的总表面区域之至少百分 之五十而言,该下陷区域之横剖面包含至少两交会 凹面,且该交会凹面形成一角,条件是该角不 能是零,且又其中该横剖面包括一整个宽度或直径 以及最大深度。2.如申请专利范围第1项之隐形眼 镜,其中该识别记号包含字母,数字或造型,且其中 该字母,数字或造型之下陷区域由连续下陷区域构 成。3.如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该下 陷区域横剖面之整体宽度或直径实质上为恒定。4 .如申请专利范围第3项之隐形眼镜,其中该至少两 交会凹面具有实质上为不变的曲率半径。5.如申 请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该下陷区域包 含至少三个交会凹面。6.如申请专利范围第1项之 隐形眼镜,其中该交会凹面面向前表面。7.如申请 专利范围第1项之隐形眼镜,其中至少有一该交会 凹面面向前表面,且至少有一该交会凹面面向后表 面。8.如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该交 会凹面在交会凹面间构成一边缘。9.如申请专利 范围第1项之隐形眼镜,其中由该交会凹面构成之 角小于12,前提为该角不得为零。10.如申请专 利范围第1项之隐形眼镜,其中该凹面之表面粗糙 度小于10微米均方根。11.如申请专利范围第1项之 隐形眼镜,其中该下陷区域之顶部为一边缘。12.如 申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该下陷区域 之顶部为一凹面。13.如申请专利范围第1项之隐形 眼镜,其中该下陷区域最大深度位在该下陷区域横 剖面之中间点。14.如申请专利范围第1项之隐形眼 镜,其中该下陷区域之交会凹面位在该隐形眼镜表 面以下不同深度。15.如申请专利范围第1项之隐形 眼镜,其中至少两交会凹面具有不同曲率半径。16. 如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该交会凹 面以一种包含机械刻划模具步骤之方法构成。17. 如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该下陷区 域之横剖面的最大深度介于5至80微米。18.如申请 专利范围第1项之隐形眼镜,其中该下陷区域之横 剖面的最大深度介于10至60微米。19.如申请专利范 围第1项之隐形眼镜,其中该交会凹面之形状实质 上为双曲线形,椭圆形,抛物线形或球面形。20.如 申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该横剖面之 整体宽度或直径介于10至500微米。21.如申请专利 范围第1项之隐形眼镜,其中该横剖面之整体宽度 或直径介30至300微米。22.如申请专利范围第1项之 隐形眼镜,其中该下陷区域之整体宽度或直径大于 100微米,该下陷区域另包括一角,其形成于下陷 区域之表面与该隐形眼镜之前表面或后表面交会 之处,且该角小于20。23.如申请专利范围第1项 之隐形眼镜,其中该下陷区域之整体宽度或直径大 于100微米,且该下陷区域顶部之曲率半径大于30微 米。24.如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中该 下陷区域之整体直径或宽度为该下陷区域最大深 度之3至30倍。25.如申请专利范围第1项之隐形眼镜 ,其中该下陷区域之整体宽度或直径为该下陷区域 最大深度之5至11倍。26.如申请专利范围第7项之隐 形眼镜,其中该至少一面向前表面之凹面之曲率半 径介于10至500微米,且该至少一面向后表面之凹面 之曲率半径介于5至300微米。27.如申请专利范围第 1项之隐形眼镜,其中该下陷区域包含奇数个交会 凹面,且中间凹面具有最小曲率半径。28.如申请专 利范围第27项之隐形眼镜,其中该中间凹面之宽度 或直径包含大于该下陷区域整体宽度或直径之50% 。29.如申请专利范围第1项之隐形眼镜,其中大于 该下陷区域表面积之75%包含该横剖面。30.如申请 专利范围第1项之隐形眼镜,其中该横剖面具有3至8 个交会凹面。31.一种隐形眼镜,其包含一前表面, 一后表面和一识别记号,该识别记号至少位在该前 、后表面其中之一面上;其中该识别记号包含一下 陷区域,该下陷区域之直径或宽度大于100微米,该 下陷区域另包括一角,其形成于下陷区域之表面 与该隐形眼镜之前表面或后表面交会之处,且该角 小于20。32.如申请专利范围第31项之隐形眼镜, 其中该角小于10。33.一种隐形眼镜,其包含一前 表面,一后表面和一识别记号,该识别记号至少位 在该前、后表面其中之一面上;其中该识别记号包 含一下陷区域,该下陷区域之直径或宽度大于100微 米,且其中该下陷区域包括一顶部,其为下陷区域 之表面与该隐形眼镜之前表面或后表面交会之处, 且该下陷区域顶部之曲率半径大于30微米。34.如 申请专利范围第33项之隐形眼镜,其中该曲率半径 大于50微米。图式简单说明: 图1为一依据本创作之一隐形眼镜识别记号"AV"之 放大简图,图中隐形眼镜部分未表现。 图2为图1隐形眼镜沿线2-2剖得之"V"放大剖面图。 图3为一本创作识别记号下陷区域之放大剖面图。 |
