| 主权项 |
1.一种下述式(1)所表之含氟有机矽化合物 式(1)中之符号示如下含意: R1及R2:各自独立,示1价烃基, Af:下述式(2)、(3)、(4)或(5)所表之基, A1-X1- (2) A2-X2-O-X1- (3) A1-X2-O-X1- (4) A2-X1- (5) 而式(2)、(3)、(4)及(5)中之符号示如下含意: A1:1价多氟烃基。 A2:含醚式氧原子之1价多氟烃基。 X1:-(CH2)a-(a系3以上之整数), X2:2价烃基。2.如申请专利范围第1项之含氟有机矽 化合物,其中式(2)系下述式(6)所表之基,式(3)系下 述式(7)所表之基,式(4)系下述式(8)所表之基,及式(5 )系下述式(9)所表之基,其中的任一条件成立。 CnF2n+1-X1- (6) F[CF(CF3)CF2O]mCF(CF3)-X2-O-X1- (7) CkF2k+1-X2-O-X1 (8) F[CF(CF3)CFO]vCF(CF3)-CF2OCF2CF2-X1- (9) 而式(6)、(7)、(8)及(9)中之符号示如下含意: n:至18之整数 m:1至10之整数 k:1至18之整数 v:0以上之整数 X1及X2:同式(2)、(3)、(4)或(5)中之含意。3.如申请专 利范围第1或2项之含氟有机矽化合物,其中X2表-(CH2 )p-(p系1至10之整数)。4.一种含氟有机矽化合物之 制造方法,系将下述式(10)所表之含氟有机矽化合 物水解制造上述式(1)所表之含氟有机矽化合物,其 特征为:将水解中所产生之卤化氢一面以中和一 面进行水解, 而式(10)中之符号示以下含意: X:卤素原子 R1.R2及Af:同式(1)中之含意。5.如申请专利范围第4 项之含氟有机矽化合物之制造方法,其中系分散 或悬浮于水中之无机。6.如申请专利范围第5项 之含氟有机矽化合物之制造方法,其中系使分散或 悬浮于水中之无机,从反应开始起即存在于反应 系中以进行水解。7.一种表面处理剂,系以如申请 专利范围第1至3项中任一项之含氟有机矽化合物 为必要成分。 |
