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发明名称 BINARY AND PHASE-SHIFT PHOTOMASKS
摘要 The present invention relates to photomasks for use in semiconductor chip manufacture.
申请公布号 WO02073310(A2) 申请公布日期 2002.09.19
申请号 WO2002US07557 申请日期 2002.03.12
申请人 DIVERGING TECHNOLOGIES, INC. 发明人 CAMPI, JIM, G.;VAN DEN BROEKE, DOUGLAS, J.
分类号 G03F1/00;G03F1/32;G03F1/48 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
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