Reflektierender Maskenrohling und reflektierende Maske für EUV-Belichtung und Verfahren zum Herstellen der Maske

摘要

In einem reflektierenden Maskenrohling für EUV-Belichtung ist eine mehrlagige Schicht auf einem Substrat ausgebildet, um EUV-Licht zu reflektieren. Eine Zwischenschicht ist auf der mehrlagigen Schicht ausgebildet. Eine Absorptionsschicht ist auf der Zwischenschicht ausgebildet, um das EUV-Licht zu absorbieren. Die Zwischenschicht wird aus einem Material hergestellt, das Cr und mindestens eines der Elemente N, O und C enthält.