发明名称 Anordnung als Maske für Lithographie
摘要 Eine reflektierende Membranmaske (1) besteht zumindest teilweise aus einem elektrisch leitfähigen Material und ist horizontal über einer zu bearbeitenden Probe (6) ausgerichtet. Eine Durchbiegung wird dadurch kompensiert, dass über der Membranmaske und parallel dazu eine Elektrodenplatte (2) angeordnet ist, die mit einer Anzahl gegeneinander elektrisch isolierten Elektroden (3) versehen ist. Durch Anlegen einer jeweiligen elektrischen Potenzialdifferenz zwischen einer Elektrode und der Membranmaske werden elektrostatische Kräfte hervorgerufen, die eine Verformung der Membranmaske korrigieren.
申请公布号 DE10051466(C2) 申请公布日期 2002.09.19
申请号 DE2000151466 申请日期 2000.10.17
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 EHRMANN, ALBRECHT
分类号 G03F1/00;G03F1/24;G03F7/20 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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