由于折射率最优化得到的具有改进了性能的光吸收防反射涂层

摘要

本发明包括一种光吸收顶层防反射涂层，减小了用于半导体工艺中的光刻胶材料的波动曲线振幅。所说的涂层可以是水基的，但是不一定必须如此。水基涂层的优点是容易使用，因为他可以不与轻度烘烤的光刻胶混合，并且在显影步骤中除去，所以仅仅最小地增加了工艺的复杂性。现存的非吸收性防反射涂层的问题之一是只有在非常低的折射率时才能得到最佳的波动曲线的减小。染色的涂层的优点是：a)如果慎重选择染料，利用反常色散效应可以额外地降低顶层涂层的折射率，b)在顶层涂层的折射率较高时有可能获得最佳的波动曲线的减小。通过这两种作用的结合，本发明表明波动曲线的减小接近理论的最小值，这构成了比现存的防反射顶层涂层的一个重要的改进。

主权项

1、一种用于光刻胶的顶层防反射涂层，它包括一个染色的吸光薄膜，其中，来自辐射波长的光吸收引起的反常色散使顶层防反射涂层的折射率的实部和虚部更接近薄膜组进入空气的反射率最小化的条件。