| 发明名称 |
Resist and etching by-product removing composition and resist removing method using the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0218357(D0) |
申请公布日期 |
2002.09.18 |
| 申请号 |
GB20020018357 |
申请日期 |
2002.08.07 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/32;C11D1/52;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D7/60;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/3065 |
主分类号 |
G03F7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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