| 发明名称 | 化学机械抛光系统及其使用方法 | ||
| 摘要 | 含有α－氨基酸的化学机械抛光组合物及浆料,其可用于抛光包括多层金属、或金属及介电质的基材。 | ||
| 申请公布号 | CN1370208A | 申请公布日期 | 2002.09.18 |
| 申请号 | CN00811638.5 | 申请日期 | 2000.07.26 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 王淑敏;弗拉斯塔·布鲁西克考夫曼 |
| 分类号 | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;H01L21/321 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光系统，其包含：至少一种氧化剂；及至少一个α-氨基酸，其具有式H2N-CR1R2COOH，其中R1及R2不均为氢，且其中R1及R2各自独立地选自氢、具有1至8个碳原子的支链、环状及直链部份，其未经取代或经一个或多个取代基所取代，取代基选自含氮取代基、含氧取代基、含硫取代基及其混合物。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||